半导体废气处理设备是专门设计用于净化和处理半导体制造过程中产生的有害气体的系统。这些设备通过各种技术手段,如吸附、催化燃烧、生物处理等,有效去除废气中的有害物质,如挥发性有机化合物(VOCs)、酸性气体和重金属等,以达到环境保护和职业健康的要求
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产品 | KT-DS100 | KT-DS200 |
类型 | 吸附式 | 吸附式 |
处理能力 | 100SLM | 200SLM |
适用气体 | F2,CL2,HF,HCL,DCS,TCSBF3等 | F2,CL2,HF,HCL,DCS,TCSBF3等 |
适用工艺 | ETCH/DIFF/CVD等 | ETCH/DIFF/CVD等 |
电源 | 220V, 1Ф,10A,50/60Hz | 220V, 1Ф,10A,50/60Hz |
氮气 | Max.60LPM, 5 kg/cm² | Max.100LPM, 5 kg/cm² |
冷取水 | N/A | N/A |
气体入口 | KF40*4 | KF40*4 |
排气口 | Ф100 | Ф100 |
设备尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1200Wx700Dx1850H |
吸附式废气处理设备具有多种优势:它能够有效去除多种有害气体,包括挥发性有机化合物(VOCs)、硫化氢、氨气等,适用于化工、制药、印刷等行业。其次,设备操作简单,维护成本低,且占地面积小,适合空间受限的场合。此外,通过选择合适的吸附材料和设计合理的吸附床结构,可以实现对特定污染物的高效去除。
1、处理特气效率完美
2、运营成本低,无废水
3、易维护&更换吸附桶方便
4、操作稳定,可PLC/Touch Panel自动控制
5、配置应急或备份吸附桶,无缝切换
6、主要应用行业:Semi、FPD、Solar、LED
7、主要应用工艺:IMP/Etch/MOCVD/厂务等
8、吸附剂容量:100L
产品 | KT-CW600 | KT-CW1200 |
类型 | 水洗式 | 水洗式 |
处理能力 | 600SLM | 1200SLM |
适用气体 | NH3、C12、HC1、HBr、S02、NO2等溶于水的气体 | NH3、C12、HC1、HBr、S02、NO2等溶于水的气体 |
适用工艺 | ETCH/DIFF/CVD等 | ETCH/DIFF/CVD等 |
电源 | 220V, 1Ф,16A,50/60Hz | 220V, 1Ф,32A,50/60Hz |
氮气 | Max.60LPM, 5 kg/cm² | Max.100LPM, 5 kg/cm² |
自来水 | 5~8LPM, 3kg/cm² | 8~15LPM, 3kg/cm² |
气体入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排气口 | Ф100 | Ф100 |
设备尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1500Wx700Dx1850H |
水洗式废气处理设备具有结构简单、操作方便、投资成本低等优点。它能够适应各种规模的半导体废气处理需求,特别适用于处理大风量、低浓度的废气
1、使用耐腐蚀材料,整体防腐蚀设计
2、维护方便,操作稳定,PLC/Touch Panel自动控制运营成本低
3、主要应用行业:Semi、FPD、Solar、LED
4、主要应用工艺:Etch/厂务等
5、处理容量:600LPM
6、设备处理气体种类:NH3.CI2.HC.HBr.SO2.NO2等溶于水的气体
产品 | KT-EW800 | KT-EW1600 |
类型 | 电热水洗式 | 电热水洗式 |
处理能力 | 800SLM | 1600SLM |
适用气体 | SiH4、PH3、B2H6、CL2、HBr、NH3、CH4等 | SiH4、PH3、B2H6、CL2、HBr、NH3、CH4等 |
适用工艺 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 |
电源 | 220V, 1Ф,40A,50/60Hz | 220V, 1Ф,80A,50/60Hz |
氮气 | Max.60LPM, 5 kg/cm² | Max.100LPM, 5 kg/cm² |
压缩空气 | Max.100LPM, 5 kg/cm² | Max.180LPM, 5 kg/cm² |
气体入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排气口 | Ф100 | Ф100 |
设备尺寸 | 900Wx750Dx1850H | 1500Wx800Dx1850H |
电热水洗式废气处理设备的优势在于其能够处理多种类型的废气,特别是那些含有水溶性污染物的废气。电加热功能使得设备在处理低温或寒冷环境下的废气时更加高效。
1、采用筒式加热棒,高加热效率及均匀热分布,温度850℃
2、操作简便,PLC/Touch Panel自动控制整体防腐设计
3、可选配湿式静电除尘模块
4、运行成本低
5、广泛应用于Semi、FPD、Solar、LED行业的各种工艺
6、处理容量:600SLM-1600SLM
产品 | KT-PW600 | KT-PW1200 |
类型 | 等离子水洗式 | 等离子水洗式 |
处理能力 | 600SLM | 1200SLM |
适用气体 | NF3、CF4、SF6、C4F8、C2F6、SiH4、PH3、B2H6、CL2、NH3、CH4等 | NF3、CF4、SF6、C4F8、C2F6、SiH4、PH3、B2H6、CL2、NH3、CH4等 |
适用工艺 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 | ETCH/DIFF/CVD/IMP等 |
电源 | 220V, 3Ф,100A,50/60Hz | 220V, 1Ф,160A,50/60Hz |
氮气 | Max.50LPM, 5 kg/cm² | Max.100LPM, 5 kg/cm² |
压缩空气 | Max.100LPM, 5 kg/cm² | Max.180LPM, 5 kg/cm² |
冷却水 | 5~8LPM, 20~30℃,3kg/cm² | 8~15LPM, 20~30℃,3kg/cm² |
气体入口 | KF40*4 | KF40*8 |
排气口 | Ф100 | Ф100 |
设备尺寸 | 800Wx600Dx1850H | 1500Wx700Dx1850H |
等离子水洗式废气处理设备具有多项优点:首先,它能够处理多种难以降解的有害气体,适用范围广;其次,设备运行稳定,净化效率高,能够满足严格的环保要求;再者,该设备结合了等离子体的高能量特性和水洗的物理吸收作用,实现了高效的废气净化。
1、低功率,高性能
2、出色的PFC气体处理效率
3、通过配置静电除尘系统,达到超过99%的副产物颗粒处理效率
4、等离子火炬使用寿命长
5、出色的防腐蚀设计
6、自动模式,使用简便
7、主要应用行业:Semi、FPD、Solar、LED
8、主要应用工艺:Etch/CVD等
我们建有300平米千级洁净间,并且通过了ISO9001和ISO14001质量体系认证。我们追求精益求精,用品质赢得客户信任。
对供应商的所有原材料严格执行验收
生产过程中,每完成一道工序均进行严格的质量监测
遵循出厂检验报告,逐项监测,确保交付设备稳定运行